AutoSIMS automatic surface analysis system
AutoSIMS de Hiden Analytical es una herramienta compacta para el análisis rutinario y automático de superficies.
Resulta idóneo para la medición de películas delgadas, la contaminación desde la monocapa superior, hasta micrones en materiales conductores o aislantes.
AutoSIMS – Sistema automatizado de análisis de superficies.
Las muestras se cargan a través de un soporte de cassette modular y se colocan utilizando la etapa de alta precisión controlada por ordenador.
El cañón de iones y las recetas de análisis ejecutan la herramienta de forma automática, informando de los resultados en hojas de cálculo u otro formato personalizado.
El cañón de iones de oxígeno de larga duración proporciona un haz estable durante todo el día y la noche, ofreciendo espectros de superficie y perfiles de profundidad 3D.
Si bien la herramienta está diseñada para poder ser ejecutada por técnicos no necesariamente especializados, la gama completa de parámetros SIMS está disponible para usuarios avanzados; el AutoSIMS es idóneo como herramienta de investigación, proporcionando una resolución de profundidad y unas características inigualables por su precio.
Características
Totalmente automatizado, perfecto para análisis SIMS.
Etapa de muestra grande de X-Y.
Cañón de iones de oxígeno para análisis sensibles.
Portamuestras estilo cassette personalizable.
Los parámetros se pueden especificar a través de la hoja de cálculo.
Caracterización 3D.
Resolución de la profundidad del nanómetro.
Servicio modular para alta disponibilidad.
Aplicaciones
Películas finas.
Modificación de superficies.
Revestimientos.
Monitorización de productos.
Análisis repetitivos.
Áreas amplias.
Múltiples regiones.
CVD / MOCVD / ALD.
Compact SIMS instrument optimised for depth profiling at the nanometer scale
Compact SIMS de Hiden Analytical está diseñado para una rápida y fácil caracterización de estructuras de capa, contaminación de la superficie e impurezas con detección sensible de iones positivos, asistidos por el haz de ión primario de oxígeno.
Proporciona una sensibilidad isotópica en toda la tabla periódica.
La geometría del cañón de iones es idónea para la resolución de la profundidad del nanómetro y el análisis cerca de la superficie.
Compact SIMS – Sistema compacto optimizado para el estudio nanoscópico de la profundidad de muestra y su composición.
Su carrusel giratorio permite cargar 10 muestras simultáneamente para medirlas en la cámara de vacío de bombeo seco.
Dispone de una huella pequeña y es excepcionalmente intuitivo. Cuenta con el mismo software de control y sistema de cañón de iones que ofrece la familia de estaciones de trabajo Hiden SIMS, que proporciona perfiles de profundidad, imágenes en 3D y 2D y datos espectrales de masas.
El detector MAXIM-600P se basa en el filtro de masas cuadrupolar triple de Hiden de 6 mm con detección de iones de pulso.
Una opción de cañón de electrones está disponible para el análisis de muestras aislantes.
Además de SIMS, el Compact SIMS dispone de una instalación de SNMS, que es útil para la cuantificación de elementos de alta concentración, como aleaciones.
Características
Small footprint.
Interfaz intuitiva.
Sólo requiere alimentación eléctrica monofásica (bajo 10A).
Carro con ruedas.
SIMS positivo y SNMS.
Perfilado de profundidad.
Caracterización e imagen 3D.
Espectrometría de masas.
Análisis a escala nanométrica.
Aplicaciones
Células solares.
Revestimientos de vídrio.
Películas delgadas metálicas.
EQP For the analysis of positive and negative ions, neutrals, and radicals from plasma processes
El EQP de Hiden Analytical combina un espectrómetro de masas y un analizador de energías para el estudio de los iones de plasma, neutros y radicales neutros.
Incluye modos de funcionamiento para análisis de iones positivos y negativos. Dispone de modos de ionización de umbral e ionización de unión de electrones para estudios detallados de radicales neutros, para el análisis de radiocales de plasma electroposibivos y electro-negativos.
El sistema EQP integra MCS: adquisición de datos escalares multicanal con resolución de tiempo de hasta 50 nanosegundos, lo que permite una rápida adquisición de datos en aplicaciones de plasa pulsado.
EQP – Análisis de iones posibivos, negativos, moléculas neutras y radicales.
Las sondas de plasma de Hiden miden algunos de los parámetros clave del plasma y proporcionan información detallada en relación con la química de la reacción del plasma.
La comprensión detallada de la cinética de la reacción de los iones de plasma y las espacies neutrales desempeña un papel clave en el desarrollo de procesos avanzados de ingeniería de superficies como el HIPIMS.
Características
Óptica de extracción de iones controlada por software para una perurbación mínima del plasma.
Analizador del sector electrostático a 45º, Scan Energy a incrementos de 0,05 eV/0,25eV FWHM.
Perturbación mínima de la trayectoria de vuelo iónico y la trnasmisicón constante de iones en todas las energías.
Triple filtro de bombeo diferencial.
Cuadrupolo, opciones de rango de masa a 5000 amu.
Detector de recuento de iones de impulsos de alta sensibilidad/estabilidad con rango dinámico de 7 décadas.
Ionizador integral ajustable para potencial de apariencia MS con opción de acoplamentio de electrones Penning Gauge y enclaves para proporcionar protección contra la sobrepresión. Selección de señal y opción de activación de serñal programable para estudios de resolución temporal en plasma pulsado.
Opción de 1000eV, opción flotante hasta 10keV, copa Faraday para plasmas de alta desnsidad.
Mu-Metal, opciones de blindaje radio-metal, opción de operación a alta presión.
Control Massoft a través de RS232, RS485 O Ethernet LAN.
Aplicaciones
Análisis de iones y radicales.
Etching/deposition studies.
ablación láser.
Análisis de gases resiguales (RGA).
Detección de fugas.
Acoplamiento de electrodo de plasma.
EQS SIMS Analyzer of secondary positive and negative ions from solid samples
EQS de Hiden Analytical es espectrómetro de masas cuadrupolar de iones secundarios de alta transmisión, SIMS.
Incluye un sector electrostático de 45 grados para el análisis simultáneo de energía iónica.
EQS SIMS – Espectrómetro cuadrupolar para SIMS de iones secundarios +ve y -ve procedentes de muestras sólidas.
Los iones se recolectan en el eje del dispositivo, lo que convierte al EQS en un equipamiento idóneo para detecciones de postventa en una amplia variedad de instrumentación para analizar superficies.
El EQS también puede usarse para la detección de neutros pulverizados.
Características
Detector de recuento de iones de pulso de alta sensibilidad con rango dinámico de 7 décadas
Raster control para obtener una imagen y perfil de profundidad mejorados con control de señales integrado.
Analizador del sector electrostático a 45º. Escanea energía a 0,05 eV en incrementos /0,25 eV FWHM.
Perturbación mínima de la trayectoria de vuelo iónico y transmisión constante de iones en todas las energías.
Triple filtro cuadrupolar. Opciones de masa a 5000 amu.
Penning Gauge y dispositivos de bloqueo como protección contra la sobreimpresión.
Opción de bombeo diferencial para su uso en entornos de alta presión.
Control MASsoft a través de RS232, RS485 o Ethernet LAN.
Se conecta fácilmente a los sistemas existentes.
Aplicaciones
Análisis de superficies.
Películas finas e ingeniería de superficies.
Catálisis.
Ciencia de superficies.
ESPion Langmuir probe for plasma diagnostics
La monitorización rutinaria de las características del plasma I-V mediante la sonda ESPion de Hiden Analytical permite obtener información directa relacionada con la estabilidad y reproducibilidad del plasma.
La extrapolación automática de los parámetros del plasma en tiempo real proporciona información detallada sobre las propiedades del plasma para su uso en la caracterización y monitorización de su uniformidad.
ESPion – Sonda Langmuir para la caracterización de plasmas.
El sistema ESPion emplea Orbital Motion Limited (OML) y Allen Boyd Reynolds (ABR) como modelos estándar de análisis de plasma.
La unidad Z automática de Hiden proporciona mediciones de resolución espacial en todo el volumen de plasma. Las opciones de conversión estándar de Z-drive son: 30, 600 y 900 mm.
Características
Velocidad de adquisición de 15 exploraciones por segundo con interfaz D-O-E para análisis automáticos, semiautomáticos o manuales.
Hiden es pionero en la compensación de RF pasiva.
Hiden tiene la resistencia al bloqueo más alta del mercado.
4,25 Mhm a 13,56 MHz cf. 100 kOhm.
Cadena multiinductor enfriada por gas para operar con plasma a alta temperatura.
La cadena de inductor múltiple enfriada por gas es reemplazable por el usuario para sintonizar otras frecuencias.
La sonda de referencia compensa los efectos de baja frecuencia.
Cambio en el potencial de plasma (por ejemplo, pareces anodizadas de la cámara) o ruido (por ejemplo, fuente de alimentación).
ESPion ofrece las especificaciones de plasma pulsado más rápidas que cualquier otra sonda.
ESPionSoft contiene todos los circuitos de activación necesarios como estándar.
Opciones de accionamiento lineales automáticas de 300, 600 o 915 mm.
Válvula de aislamiento de interbloqueada, sondas de 90º, opciones combinadas de accionamientos rotativos lineales disponibles.
Ciclo de autolimpieza para limitar la contaminación de la punta de la sonda.
Control ESPionSoft a través de RS232, RS485 o Ethernet LAN.
Aplicaciones
Caracterización de plasma.
Potencial de plasma.
Potencial flotante.
Temperatura de electrones.
Densidad de iones.
Distribución de energía de electrones.
Flujo de iones.
HPR-30 Process and residual gas analysis
El analizador de gases residuales HPR-30 de Hiden Analytical ha sido especialmente diseñado para el análisis de gases y vapores en procesos de vacío y diagnóstico del mismo.
El sistema es totalmente configurable para aplicaciones de procesos individuales, como CVD, grabado con plasma, MOCVD, pureza del gas y monitorización de contaminantes.
HPR-30 – Análisis de trazas y gases de proceso.
Las opciones incluyen el innnovador sistema de cruadrupolo de triple filtro de la serie Hiden 3F, que proporciona una mayor sensibilidad de abundancia, niveles de detección de partes por billón (ppb) y una alta resistencia a la contaminación.
Especialmente adecuado para el análisis de gases agresivos en aplicaciones CVD y RIE.
Características
Espectrómetro de masas de triple filtro.
Opciones de rango de masa de 200, 300, 500 o 1000 amu.
Sensibilidad de abundancia mejorada.
Detección a 5 ppb.
Modo de ionización suave APSI-MS.
Aplicaciones
HMT.
PSM.
HPR-60 MBMS Molecular beam sampling mass spectrometer for ion and radical analysis
El HPR-60 MBMS de Hiden Analytical es un espectrómetro de masas compacto de haz molecular de entrada de skimmer para el análisis de plasma atmosférico y productos intermedios de fase de gas reactivo.
HPR-60 MBMS – Análisis de iones y radicales capturados a presión y temperatura ambiente, plasmas, etc.
Los radicales se muestrean a través de una entrada skimmer de bombeo diferencial de múltiples etapas y se transfiere a la fuente de iones MS con una interacción mínima con otras especies y sin provocar colisiones en las paredes.
Las entradas personalizables permiten la conexión a muchos sistemas reactores diferentes, incluidos los plasmas atmosféricos.
El sistema skimmer, combinado con un espectrómetro de masas de precisión de triple filtro de Hiden, ofrece un sistema de muestreo con respuesta ultrarápida de alta precisión.
Características
Toma de muestras moleculares a presión atmosférica.
Análisis de iones + ve y – ve.
Conos de skimmer reemplazables por el usuario.
Modo de ionización por fijación de electrones para el estudio de radicales electro-negativos.
Modo de ionización suave APSI-MS para análisis de radicales.
Opciones de rango de masa: 300, 510 o 1000 amu.
Opciones de rango de energía: 100 eV o 1000 eV.
Aplicaciones
Caracterización de plasma.
Cinética de la reación de gas.
Monitorización ambiental.
Catálisis.
Estudios de separación de gas.
IG20 – 5KeV Argon or Oxygen SIMS primary ion source for UHV surface analysis
El IG20 de Hiden Analytical es un cañón iónico de argón u oxígeno de 5KeV como fuente de iones para análisis de superficies en UHV.
Proporciona una fuente de iones de gas de impacto electrónico con alto brillo, específicamente diseñado para la capacidad del oxígeno, pero también adecuado para su uso con gases inertes, entre otros.
IG5C – Cañón iónico de oxígeno o argón de 5KeV como fuente de iones para análisis de superficies en UHV.
Está diseñado como haz de iones primario para aplicaciones SIMS, Auger y XPS para imágenes y perfiles de profundidad.
Su capacidad de escaneo y su ámplia gama de parámetros operativos lo hacen adecuado para la limpieza de muestras y experimentos científicos de superficies.
Dispone de dos filamentos intercambiables que garantizan un funcionamiento continuo. Así, en el caso de que un filamento se funda, podrá ser cambiado por el usuario.
Características
Haz de iones intenso con un tamaño de punto de 100 µm y energía de 0,5 a 5 keV.
Alta densidad de corriente, hasta 4,5 mA/cm2
Fuente de iones de impacto electrónico con capacidad de argón y oxígeno.
Óptica de dirección para dispersión de línea y rasterización de haz en perfilado en profundidad.
Instalación de supresión de haz para un intercambio rápido en aplicaciones de rasterizado.
Bombeo diferencial de fuente para carga de gas de cámara reducida.
Conjunto de filamento doble fácilmente remplazable.
Tasas de barrido de hasta 64 µs.
Operación integrada con sondas SIM y EQS para control de área /raster y raster directo.
Aplicaciones
Análisis de superfies.
Películas finas e ingeniería de superficies.
Ciencia de superficies.
Nanotecnología.
Espectroscopia electrónica.
Parpadeo del haz de iones.
Perfilado de profundidad de rasterización.
IG5C – 5KeV Caesium SIMS primary ion source for UHV surface analysis
El IG5C de Hiden Analytical es un cañón iónico de cesio de 5KeV como fuente de iones para análisis de superficies en UHV.
Proporciona una fuente de ionización superficial de baja potencia y alto brillo acoplada a una columna de iones, lo que proporciona un alto rendimiento en un diseño compacto.
IG5C – Cañón iónico de cesio de 5KeV como fuente de iones para análisis de superficies en UHV.
El cañón está diseñado como un haz de iones primario para todas las aplicaciones SIMS, dinámicas, estáticas e imágenes.
El IG5C se controla a través de una intuitiva interfaz basada en Windows PC, que maneja la gestión térmica de la fuente.
El cañón es fácilmente configurable y reproducible para aplicaciones de alta o pequeña corriente.
Los controladores para LabVIEW están asimismo disponibles para permitir la integración de OEM en otros sistemas.
Características
Fuente de iones estable al aire.
Brida de montaje pequeña para una instalación flexible.
Fácil instalación de fuentes de remplado autoalineables.
Larga vida útil.
Bombeo diferencial para mantener la verdadera presión de la cámara de UHV.
Fácil reemplazo de la abertura de definición del haz
Aplicaciones
Catálisis.
Análisis de superfies.
Películas finas e ingeniería de superficies.
Ciencia de superficies.
Nanotecnología.
IMP-EPD For ion etch control and optimum process quality
El IMP-EPD de Hiden Analytical es un espectrómetro de masas de iones secundarios reforzado y bombeado diferencialmente para el análisis de iones secundarios en el proceso de grabado por haces de iones.
IMP-EPD – Sistema de detección de punto final en MBE para control de procesos.
El sistema incluye un software integrado con algoritmos específicos de proceso desarrollados para un control óptimo.
Probado para la producción de dispositivos de película delgada de alta especificación, para aplicaciones que incluyen películas delgadas magnéticas, superconductores de alta temperatura y semiconductores III-V.
Características
Alta sensibilidad SIMS /MS con detector de contador de iones de pulso.
Triple filtro cuadrupolar, rango de masa de 300 amu estándar.
Colector de bombeo diferencial con brida de montaje a la cámara de proceso.
Óptica de iones con analizador de enegía e ionizador integral.
Penning Gauge y enclavamientos como protección contra la sobrepresión.
Sistema de datos integrado con la herramienta de proceso.
Estabilidad (menos de ± 0.5% de variación de altura durante 24 h).
Control MASsoft a través de RS232, RS485 o Ethernet LAN.
DDE programable, E/S digital paralela, RS232 Scripting Communication.
Aplicaciones
Análisis de punto y final.
Determinación de impuraeza objetivo.
Control de calidad SPC
Potencial de plasma.
Análisis de gases residuales (RGA).
Detección de fugas.
MAXIM – Static and dinamic SIMS and SNMS applications
El espectrómetro de masas cuadrupolar de iones secundarios MAXIM de Hiden Analytical es un instrumento de última generación diseñado para aplicaciones analíticas positivas y negativas, estáticas, dinámicas y neutrales.
Incluye un filtro de energía integral para la aceptación de iones a 30º del eje de la sonda, ópticas de extración SIMS de alta transmisión, filtro de triple masa, detector de recuento de iones de impulso y electrónica de control.
MAXIM – Analizador estático y dinámico para SIMS y SNMS.
El ángulo de aceptación de 30º permite que el MAXIM pueda ser montado con su eje paralelo al plano de la muestra, dejando una vista clara del área muestreada para otras ópticas de luz o iones.
MAXIM tolera la carga de muestras, lo que le convierte en la sonda ideal para el análisis de aislantes.
Además, su gran ángulo de aceptación permite obtener imágenes de ámplias áreas.
Características
Opciones de rango de masa: 300, 500 o 1000 amu.
Detector de recuento de iones positivos y negativos, 107 cps.
Triple filtro de masa.
Diámetro de poste: 9 mm.
Horneado: 250 ºC.
Filtro de energía iónica: 30º de aceptación angular.
Ioniser: bombardeo de electrones, filamento simple para SNMS y RGA.
Aplicaciones
Catálisis.
Análisis de superfies.
Películas finas e ingeniería de superficies.
Ciencia de superficies.
Nanotecnología.
PSM Plasma sampling mass spectrometer
El PSM de Hiden Analytical constituye un espectrómetro de masas para análisis de plasmas.
Las sondas de plasma de Hiden miden algunos de los parámetros clave del plasma y proporcionan información detallada, relacionada con la química de la reacción del plasma.
PSM – Espectrómetro de masas para análisis de plasmas.
Una amplia gama de procesos industriales utilizan plasmas eléctricos.
En la industria de la microelectrónica, la demanda de mayor rendimiento, así como la reducción de las geometrías de los dispositivos hacen que la reproducibilidad y comprensión del proceso sean vitales.
La comprensión detallada de la cinética de reacción de los iones de plasma y las especies neutrales desempeña, así un papel clave en el desarollo de procesos avanzados de ingeniería de superficies HIPIMS.
Características
Óptica de extracción de iones controlada por software para una perturbación mínima del plasma.
Analizador del sector electrostático a 45º, Scan Energy a incrementos de 0,05 eV/0,25eV FWHM.
Perturbación mínima de la trayectoria de vuelo iónico y la transmisión constante de iones en todas las energías.
Triple filtro de bombeo diferencial.
Cuadrupolo, opciones de rango de masa a 5000 amu.
Detector de recuento de iones de impulsos de alta sensibilidad/estabilidad con rango dinámico de 7 décadas.
Ionizador integral ajustable para potencial de apariencia MS con opción de acoplamiento de electrones Penning Gauge y enclaves para proporcionar protección contra la sobrepresión. Selección de señal y opción de activación de señal programable para estudios de resolución temporal en plasma pulsado.
Opción de 1000eV, opción flotante hasta 10keV, copa Faraday para plasmas de alta densidad.
Mu-Metal, opciones de blindaje radio-metal, opción de operación a alta presión.
Control Massoft a través de RS232, RS485 O Ethernet LAN.
Aplicaciones
Análisis de iones y radicales.
Etching/deposition studies.
ablación láser.
Análisis de gases resiguales (RGA).
Detección de fugas.
Acoplamiento de electrodo de plasma.
SIMS Workstation, Hi5 SIMS Simultaneous Positive and Negative Ion Analysis
La estación de trabajo Hi5 SIMS funciona como un cañón de iones FIB de plasma de oxígeno de 40 nm, una etapa de muestra de cinco ejes de alta precisión y un espectrómetro de masas DLS20 exclusivo de Hiden Analytical, capaz de resolver picos de masa de 0,005 amu.
Idónea para aplicaciones aeroespaciales, nucleares, médicas y de materiales energéticos.
Estación de trabajo SIMS Hi5 – SIMS para análisis simultáneo de iones positivos y negativos.
SIMS Hi5 Workstation de Hiden Analytical es la primera del mercado que recoge los iones positivos y negativos al mismo tiempo, evitando hacer dos análisis por separado, como con cualquier otro tipo de instrumentación.
Amplio rango de trabajo. Se pueden analizar de forma rigurosa de nano a tamaños de grano, interfaz de capas y partículas sub-submicrométricas, con lectura de espectro de iones positivos y negativos simultáneamente.
En análisis donde el volumen de la muestra es crítico, no sería necesario elegir con que polaridad hacer el análisis , el Hi5 te permite la medida de ambas de forma paralela.
Características
El detector dual EQS se puede instalar en cualquier cámara de análisis de pulverización catódica.
Permite el uso eficiente de iones secundarios y el análisis en la mitad de tiempo.
Imágenes y perfiles de profundidad registrados con precisión.
Aplicaciones
Energías renovables: Pilas de combustible y células solares.
Metalurgia: estudios de corrosión y pasivación.
Análisis de fallos: química de superficies, identificación de defectos, recubrimientos funcionales.
SIMS Workstation, UHV SIMS instrument for thin film surface analysis, static SIMS, depth profiling, and imaging
La estación de trabajo SIMS de Hiden Analytical proporciona aplicaciones SIMS estáticas y dinámicas de alto rendimiento para el análisis detallado de la composición de superficies y el perfilado de profundidades.
Estación de trabajo SIMS – UHV SIMS para analizar superficies, SIMS estático, perfil de profundidad e imagen.
La instalación SNMS complementa la técnica SIMS, que proporciona la cuantificación para las mediciones de la composición de películas delgadas.
La nueva tarjeta SIMS-on-a-Flange de Hiden proporciona una instalación SIMS completa en una sola brida tipo UHV (ultraalto vacío).
Características
El analizador MAXIM SIMS de Hiden funciona con MASsoft 7 Professional para el análisis de ppb.
Ionizador integrado para un análisis eficiente de SNMS.
Elección de fuentes de excitación primaria bombeadas diferencialmente.
Cañón de gas IG20, cesio IG5C, IFG200 FAB o galio líquido de alto rendimiento.
Control de ráster de cañón de iones integral con activación de señal para perfilado de profundidad.
Opción de cañón de inundación de electrones para neutralizar la carga en estudios aislantes.
Calefactores de cámara de vacío.
Transferencia de muestra rápida, soporte de muestras y manipulador con bloqueo de carga.
Manipulador UHV para posicionamiento óptimo de la muestra.
Opción de imágenes elementales SIMS con el programa ESM LabVIEW SIMS Imaging.
Estático SIMS Spectral Library disponible.
Sintonización automática de lentes ópticas SIMS.
Alineación masiva automática para un rendimiento óptimo de SIMS.
Aplicaciones
Análisis de superficies.
Películas delgadas e ingeniería de superficies.
Ciencia de superficies.
Nanotecnología.
Pilas de combustible.
TPD Workstation for UHV temperature programmed desorption studies
El sistema TPD Workstation de Hiden Analytical incorpora una cámara de ultraalto vacío multipuerto con etapa de muestra calentada acoplada a un analizador de triple filtro de alta precisión.
Incluye detector con recuento de iones de pulso digital para una sensibilidad y resolución máximas.
TPD Workstation – Estación de trabajo para estudios de desorción térmica programada en UHV.
Constituye un sistema experimental completo para estudios de desorción programada a temperatura UHV.
El analizador de masa de triple filtro está configurado con una cubierta enfriada que permite al analizador una sensibilidad óptima con aportaciones de fondo mínimas a los productos de desorción de la muestra.
Incluye bloqueo de carga con mecanismo de transferencia para mayor rapidez en los cambios de muestra.
Características
Espectrómetro de masas Hiden 3F PIC para una rápida adquisición de datos (>500 puntos de datos por segundo).
Cámara UHV multipuerto para permitir el acoplamiento de instrumentación adicional (por ejemplo, de elipsometría).
Mecanismo de transferencia de muestra lineal y bloqueo de carga.
Válvula de compuerta y ventana de visualización.
Etapa de muestra calentada a 1000ºC.
Z-drive para posicionamiento óptimo de la muestra respecto al detector.
Bakeout Jacket (200ºC máximo).
Software integrado.
Aplicaciones
Análisis térmico con espectrometría de masas.
Catálisis.
Ciencia de superficies.
Análisis de superficies.
Nanotecnología.
Pilas de combustible.
XBS – Cross Beam Source: system for multiple source monitoring in MBE deposition applications
Las fuentes de haz molecular requieren un control preciso para el crecimiento de una película delgada de calidad y reproducible.
XBS (cross beam source – o fuente de haz cruzado) de Hiden Analytical es la herramienta más potente para espectrometría de masas de haz molecular.
XBS – Monitorización de haces moleculares en sistemas de deposición MBE.
Proporcionan una monitorización in situ de múltiples fuentes con salida de señal en tiempo real, para un control preciso de la deposición.
Características
Alta sensibilidad y rápida adquisición de datos. Señales para controlar las tasas de crecimiento de 0,01 Angstrom por segundo.
Detección mejorada de 100% a 5 ppb, rango de masa de 1 a 510 amu.
Estabilidad mejorada a largo plazo (menos de ± 0.5% de variación de altura durante 24 h).
Crossbeam ion source con una aceptación del haz a través de +/- 35 ° con respecto al eje transversal.
Control de la fuente de iones para la ionización suave y la apariencia de la espectrometría de masas.
Sensibilidad mejorada para alta transmisión de masa, alineación automática de la escala de masa.
Abertura de aceptación de haz de 2 mm: configurada para aplicaciones de usuario específicas.
Resistencia a la contaminación mejorada a través de la etapa de prefiltro RF.
Cubierta integral compatible con UHV regrigerada por agua.
Límites de detección de hasta 30 iones/segundo en estudios de haz molecular.
Monitorización de tasas de crecimiento de 1Å / minuto y menores.
Control MASsoft basado en Windows ™ a través de RS232, USB o Ethernet LAN.
Aplicaciones
Monitorización y control de MBE.
Estudios de haces moleculares.
Análisis de fuentes de haz múltiple.
RGA de alto rendimiento.
Desorción.
Estudios de desgasificación.
Ciclos de horneado.
Procesos contaminantes de gas.
